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光刻機實(shí)現對外銷(xiāo)售!又一國產(chǎn)巨頭宣布,90%核心部件為自研

摘要:公開(kāi)數據顯示,2019年我國芯片的進(jìn)口額為3040億美元,遠遠超過(guò)了第二名的原油進(jìn)口額。想要解決芯片制造的難題,就要解決制造芯片的設備—光刻機!近日,國產(chǎn)光刻機又迎來(lái)了新突破,國產(chǎn)激光巨頭大族激光宣布,該公司研發(fā)的國產(chǎn)光刻機項目已經(jīng)實(shí)現了小批量對外銷(xiāo)售。

  ICC訊 我國的芯片非常依賴(lài)進(jìn)口,根據公開(kāi)數據顯示,2019年我國芯片的進(jìn)口額為3040億美元,遠遠超過(guò)了第二名的原油進(jìn)口額。然而,中美貿易摩擦的不斷升級,早已滲透到了最為核心的芯片領(lǐng)域,美國不僅限制國產(chǎn)半導體巨頭華為海思的發(fā)展,同時(shí)還干擾光刻機巨頭ASML向國產(chǎn)芯片制造企業(yè)出口,從制造方面限制國產(chǎn)芯片的發(fā)展。這也讓我們意識到了國產(chǎn)芯片制造技術(shù)的自主、可控有著(zhù)無(wú)可替代的價(jià)值。

  而想要解決芯片制造的難題,就要解決制造芯片的設備—光刻機!作為“現代光學(xué)工業(yè)之花”,其零部件數量高達8萬(wàn)左右,每臺重達上百?lài)崱?A href="http://joq5k4q.cn/site/CN/Search.aspx?page=1&keywords=%e5%85%89%e5%88%bb%e6%9c%ba&column_id=ALL&station=%E5%85%A8%E9%83%A8" target="_blank">光刻機制造難度之大,全球只有那么幾家公司能夠制造,像荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能,而在高端極紫外光刻機領(lǐng)域,ASML則是金字塔最頂端的企業(yè)。但ASML背后的股東是資本國際、貝萊德這些美國大集團企業(yè),這也意味著(zhù)想要徹底擺脫芯片被“卡脖子”,唯有自主研發(fā)我們的國產(chǎn)光刻機。

  近日,國產(chǎn)光刻機又迎來(lái)了新突破,國產(chǎn)激光巨頭大族激光宣布,該公司研發(fā)的國產(chǎn)光刻機項目已經(jīng)實(shí)現了小批量對外銷(xiāo)售。 關(guān)于大族激光,想必許多人不了解,不僅是國內激光行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè),也是世界知名、亞洲最大的激光加工設備生產(chǎn)企業(yè),同時(shí)也是唯一入選工信部智能制造試點(diǎn)示范項目名單的企業(yè)。行業(yè)內排名僅次于第一的是德國快通。

  據大族激光表示,公司的光刻機項目分辨率為3-5μm,主要聚焦在分立器件、LED等領(lǐng)域,并且90%的核心部件為自主研發(fā)。雖然目前還并不能滿(mǎn)足高端芯片的代工任務(wù),但這是國產(chǎn)光刻機項目的又一進(jìn)步。根據公開(kāi)信息顯示,該公司還研發(fā)、設計、生產(chǎn)了晶圓激光開(kāi)槽設備、切割設備、激光解鍵合等半導體加工設備,這些大部分都是封裝設備,也是芯片制造的核心環(huán)節。

  在光刻機領(lǐng)域,行業(yè)巨頭上海微電子表示,已經(jīng)完成了28nm深紫外光刻機的技術(shù)攻關(guān),并且將在2021年下半年推出,最高可以產(chǎn)出7nm工藝的芯片,雖然與EUV光刻機還有一段差距,但根據三星和臺積電的研發(fā)進(jìn)程不難發(fā)現,距離EUV光刻機的路已經(jīng)不遠了!

  相信不遠的將來(lái),不管是高端芯片的制造,還是芯片的封裝測試,在國產(chǎn)企業(yè)的合力之下,必然能擺脫西方技術(shù)的束縛,實(shí)現自主、自研、可控,而我們也應該給予這些國產(chǎn)芯片、光刻機機企業(yè)一點(diǎn)時(shí)間和耐心,遲早有一點(diǎn)會(huì )迎來(lái)屬于國產(chǎn)光刻機的未來(lái)。

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