SK海力士二季度凈利潤翻倍 疫情推高服務(wù)器存儲芯片需求

  ICC訊 7月23日消息，韓國第二大芯片制造商SK海力士發(fā)布財報稱(chēng)，第二季度凈利潤增長(cháng)逾一倍，從上年同期的5370.3億韓元增至1.264萬(wàn)億韓元(約合10.6億美元)，超過(guò)市場(chǎng)預期，得益于存儲芯片需求和價(jià)格的穩健。

  營(yíng)收增長(cháng)33%，至8.607萬(wàn)億韓元。營(yíng)業(yè)利潤增長(cháng)逾兩倍，至1.947萬(wàn)億韓元。SK海力士表示，疫情期間數據服務(wù)器中使用的內存芯片的強勁需求抵消了移動(dòng)設備芯片需求的疲軟。

  SK海力士表示，有望將其應用于Exascale超級計算機(一種高性能計算系統，每秒可以執行五百億次計算)，它將引領(lǐng)下一代基礎和應用科學(xué)的研究，例如氣候變化，生物軍醫和太空探索。

  SK海力士執行副總裁兼首席營(yíng)銷(xiāo)官(JMO)JonghoonOh說(shuō)：“SK海力士一直走在技術(shù)創(chuàng )新的最前沿，為人類(lèi)文明做出了貢獻，取得了包括世界上第一個(gè)HBM產(chǎn)品開(kāi)發(fā)在內的成就?！薄半S著(zhù)HBM2E的大規模量產(chǎn)，我們將繼續加強我們在高端存儲器市場(chǎng)的影響力，并領(lǐng)導第四次工業(yè)革命?！?

  7月21日消息，SK海力士正計劃在M16工廠(chǎng)引入EUV光刻機。在進(jìn)入20nm節點(diǎn)之后，內存工業(yè)也面臨著(zhù)CPU工藝一樣的制造難題，微縮越來(lái)越困難，制造工藝復雜，導致內存成本居高不下。如今7nm以下的處理器用上了EUV光刻機，內存很快也要跟進(jìn)了，SK海力士計劃在韓國M16工廠(chǎng)引入EUV工藝。

  與目前大量在用的DUV光刻相比，EUV光刻機可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。

  內存用上EUV工藝之后，內存顆粒的制造成本理論上是會(huì )下降的，這也為內存降價(jià)奠定基礎，不過(guò)EUV初期來(lái)說(shuō)就很難了，因為EUV光刻機售價(jià)將近10億元人民幣，新建EUV產(chǎn)線(xiàn)的成本是非常高的，需要時(shí)間消化。

  據韓國媒體報道，SK海力士已經(jīng)成立了專(zhuān)門(mén)的研究小組攻克EUV工藝，從去年就開(kāi)始投資EUV中可能用到的TF材料，相關(guān)研究由副總裁鄭泰佑負責，他是蝕刻技術(shù)的專(zhuān)家，曾參與SK海力士首個(gè)10nmDRAM“Arius”的開(kāi)發(fā)項目以及下一代NAND閃存的研發(fā)。

  SK海力士也在推進(jìn)建設EUVDRAM內存生產(chǎn)線(xiàn)的建設，預計在韓國利川市的M16工廠(chǎng)中開(kāi)始引入。