日本補貼美光EUV晶圓廠(chǎng)12.9億美元！

  ICC訊  據日媒報道，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省正在將對美光廣島工廠(chǎng)的補貼從 3.2 億美元增加到 12.9 億美元，以加強國內半導體供應鏈。對于日本政府來(lái)說(shuō)，這筆款項是更大計劃的一部分，該計劃包括向各種芯片公司投資數十億日元，旨在增強日本的半導體實(shí)力。

  據悉，美光計劃到 2026 年開(kāi)始使用依賴(lài)于極紫外(EUV)光刻的 1γ 工藝(第三代 10 納米級節點(diǎn))大批量生產(chǎn)復雜的存儲芯片，因此該公司需要盡快獲得資金。

  日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省為期兩年的 2 萬(wàn)億日元(133.85 億美元)的龐大預算明確用于與半導體投資相關(guān)的補貼。其中，臺積電熊本工廠(chǎng)獲得高達 4760 億日元(31.857 億美元)的資金，鎧俠與西數的合作得到了價(jià)值 929 億日元(6.21 億美元)的補貼支持。

  此次對半導體公司的巨額資金注入凸顯了日本致力于減少對海外芯片供應商的依賴(lài)并重建國內半導體行業(yè)的承諾。日本旨在通過(guò)加強國內能力來(lái)規避與國際供應鏈中斷相關(guān)的潛在風(fēng)險，從而確保關(guān)鍵技術(shù)部件的平穩和強勁的內部供應。