ICC訊 第二十屆 “中國光谷” 國際光電子博覽會(huì )(OVC EXPO,以下簡(jiǎn)稱(chēng)“武漢光博會(huì )”)將于5月15-17 日在中國光谷科技會(huì )展中心舉辦。作為湖北省實(shí)驗室之一的九峰山實(shí)驗室本次展會(huì )攜檢測及工藝亮相武漢光博會(huì ),展位號B3館-3B05,誠邀行業(yè)蒞臨參觀(guān)交流。
部分產(chǎn)品搶先看
光電可靠性檢測
首發(fā)產(chǎn)品(首次展出)
應用領(lǐng)域:電子;光通信/信息處理/存儲;
描述:1、具備消費級,通信級以及車(chē)規級產(chǎn)品(AEC-Q102)的可靠性認證與客制化服務(wù); 2、產(chǎn)品壽命模型評估;3、產(chǎn)品可靠性方案設計與驗證,實(shí)現產(chǎn)品設計、工藝優(yōu)化,降低FIT; 4、光電晶圓/芯片級DC和RF測試表征。
異質(zhì)集成工藝
首發(fā)產(chǎn)品(首次展出)
應用領(lǐng)域:電子;半導體加工/制造;光通信/信息處理/存儲;
描述:1、涵蓋兼容 4/6/8 inch 工藝線(xiàn)多功能鍵合設備;2、具備多種豐富鍵合工藝能力(永久/臨時(shí)鍵合、親水/疏水鍵合,混合鍵合)以及檢測能力;3、可實(shí)現高對位精度的晶圓-晶圓鍵合(≤1um)、芯片-晶圓鍵合(≤0.3um)工藝;4、可實(shí)現多種化合物半導體材料的異質(zhì)集成,具備先進(jìn)的硅基光電融合、MEMS、2.5/3D集成及先進(jìn)封裝等綜合平臺能力。
關(guān)于九峰山實(shí)驗室
九峰山實(shí)驗室是湖北省實(shí)驗室之一,以建設先進(jìn)的化合物半導體研發(fā)和創(chuàng )新中心為愿景,已在中國光谷建立起先進(jìn)的化合物半導體科研及中試平臺,包括完備的材料體系、含7條工藝線(xiàn)的量產(chǎn)級研發(fā)流片平臺、能力全面的先進(jìn)檢測分析平臺,建立起“頂尖專(zhuān)家+科研骨干+研發(fā)工程師+技術(shù)工匠”的人才梯隊,具備以“異質(zhì)集成”、“先進(jìn)鍵合”、“化合物外延”、“集成微波無(wú)源器件(IPD)PDK”、“碳化硅(SiC)溝槽”、“PZT壓電MEMS”等為代表的技術(shù)服務(wù)能力。 未來(lái),九峰山實(shí)驗室將堅持以用為導向,與合作伙伴一同實(shí)現相應技術(shù)的實(shí)現和突破,加快打造全球化合物半導體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的“燈塔”。
光通信及信息處理領(lǐng)域:https://www.jfslab.com.cn