ICC訊 (編譯:Aiur)近日,英特爾實(shí)驗室成立了數據中心互聯(lián)集成光子學(xué)英特爾研究中心。該中心將專(zhuān)注于光子學(xué)技術(shù)與器件、CMOS電路與鏈路架構以及封裝集成與光纖耦合,并以加速性能規模和集成的光學(xué)輸入/輸出(I/O)技術(shù)創(chuàng )新為使命。
為何重要?如今,服務(wù)器到服務(wù)器之間急劇增長(cháng)的數據流量正在占用網(wǎng)絡(luò )基礎設施的性能,行業(yè)也加速接近電子I/O性能的瓶頸。當需求持續增長(cháng)時(shí),電子I/O功率性能的提升卻不能保持同步,將給計算運作能力帶來(lái)限制。英特爾認為,這種性能障礙可以通過(guò)集成計算硅和光學(xué)I/O性能來(lái)克服,而這正是研究中心聚焦的關(guān)鍵研究。
英特爾近期展示了集成光學(xué)關(guān)鍵技術(shù)的構成要素,光場(chǎng)、放大、探測、調制、CMOS接口電路和封裝集成是實(shí)現所需性能的重要因素,以取代電子成為主要的高帶寬封裝外接口。
此外,光學(xué)I/O可在距離、帶寬密度、功耗和延遲等關(guān)鍵性能指標上顯著(zhù)優(yōu)于電子。當然,在降低功耗和成本的同時(shí),還需要在幾個(gè)方面進(jìn)一步通過(guò)創(chuàng )新來(lái)擴展光學(xué)性能。
關(guān)于研究中心:英特爾研究中心面向數據中心互聯(lián)集成光學(xué)研究,匯集了大學(xué)和世界知名研究人員,以加速性能擴展和集成方面的光學(xué)I/O技術(shù)創(chuàng )新,該中心的研究愿景是探索滿(mǎn)足未來(lái)十年及以后的能源效率和帶寬性能所需要的技術(shù)演進(jìn)路徑。
英特爾深知學(xué)術(shù)界是技術(shù)創(chuàng )新的核心,其致力于促進(jìn)全球領(lǐng)先學(xué)術(shù)機構的研究創(chuàng )新工作,該研究中心反映了英特爾一直致力于與學(xué)術(shù)界合作開(kāi)發(fā)新的和先進(jìn)的技術(shù),以改進(jìn)和提升人們對計算的認知。