九峰山實(shí)驗室首批晶圓下線(xiàn)，實(shí)現高精密光柵芯片突破

  ICC訊  2023年3月19日，九峰山實(shí)驗室工藝中心8寸中試線(xiàn)正式通線(xiàn)運行，首批晶圓(高精密光柵)成功下線(xiàn)。這也標志著(zhù)實(shí)驗室8寸0.15μm以上技術(shù)節點(diǎn)設備及工藝的全線(xiàn)打通，填補了國內高線(xiàn)密度、超高折射率、非周期性高精密光柵生產(chǎn)工藝空白。

  引入鍵合工藝，首批晶圓提前下線(xiàn)

  自2022年11月首臺設備遷入以來(lái)，九峰山實(shí)驗室工藝平臺一直在緊鑼密鼓地進(jìn)行設備的遷入和調試。2023年3月，8寸線(xiàn)完成通線(xiàn)，并迎來(lái)第一批晶圓下線(xiàn)。

  與常規產(chǎn)品相比，高精密光柵最大工藝難點(diǎn)在于其玻璃襯底的特殊性：透明襯底導致機臺無(wú)法尋邊對中，對熱制程的敏感導致翹曲現象極易發(fā)生，機械性能差、易破易碎，背面潔凈度要求極高等。實(shí)驗室工藝中心團隊在充分調研及大量驗證測試的基礎上，結合現有工藝設備能力，在兩周時(shí)間內連續攻克了光刻曝光面內不均勻、刻蝕不充分形貌坡度角大、薄膜膜層折射率低、襯底減薄邊緣碎片等十余項關(guān)鍵工藝問(wèn)題，并大膽引入臨時(shí)鍵合工藝的技術(shù)方案，系統性解決了玻璃襯底在制程中的各項工藝問(wèn)題，實(shí)現提前下線(xiàn)，也為此類(lèi)產(chǎn)品良率的大幅提升開(kāi)辟了新道路。

  本次8寸中試線(xiàn)的順利通線(xiàn)和第一批晶圓下線(xiàn)，標志著(zhù)九峰山實(shí)驗室工藝中心已經(jīng)初步具備8寸0.15μm以上技術(shù)節點(diǎn)設備及工藝流片能力，填補了國內高線(xiàn)密度、超高折射率、非周期性高精密光柵生產(chǎn)工藝空白。

  進(jìn)入全面運營(yíng)期，實(shí)驗室加速啟航

  2021年8月開(kāi)工，2022年11月首臺設備正式搬入，2023年3月8寸中試線(xiàn)正式通線(xiàn)運行，在不到兩年時(shí)間內，九峰山實(shí)驗室高速完成建設期任務(wù)，進(jìn)入全面運營(yíng)期。