聯(lián)電與美光達成和解 或將赴美設廠(chǎng)

  ICC訊  據多家臺灣媒體報道，臺灣晶圓廠(chǎng)聯(lián)電發(fā)布公告，公司已與美光達成全球范圍內的和解協(xié)議，雙方將各自撤回向對方提起的訴訟，同時(shí)聯(lián)電向美光一次性支付一筆金額保密的和解金，未來(lái)雙方將共同創(chuàng )造合作機會(huì )。

  臺媒報道稱(chēng)，在達成和解后，聯(lián)電或可能追隨臺積電的腳步，前往美國新建晶圓廠(chǎng)。不過(guò)有業(yè)內人士表示，美國需要的是先進(jìn)制程，聯(lián)電赴美不太可行。

  據報道，聯(lián)電現有12座晶圓廠(chǎng)，主要是成熟制程，是28nm的重要代工廠(chǎng)之一。而雙方訴訟，起源于2016年聯(lián)電與福建多家公司合資組建晉華公司，令美光感受到威脅，美光于2017年起訴聯(lián)電違反反營(yíng)業(yè)秘密法。后來(lái)，美國司法部親自下場(chǎng)，指控福建晉華與聯(lián)電共謀“盜竊”美國商業(yè)機密。

  在美國司法部的強大壓力下，聯(lián)電選擇退讓?zhuān)ツ昱c美國司法部達成和解，賠償6000萬(wàn)美元，從而避免了高額罰款。

  本次與美光達成合作，聯(lián)電將可以擺脫來(lái)自美國的訴訟困擾，輕裝上陣。

  隨著(zhù)與美國司法部、美光先后達成和解，遭遇挫折的福建晉華也迎來(lái)轉機。如果聯(lián)電無(wú)罪，那么晉華的“同謀罪”，也就無(wú)從說(shuō)起。