中國企業(yè)擬與尼康和佳能共同開(kāi)發(fā)光刻機！

  ICC訊  據日經(jīng)新聞指出，隨著(zhù)美國的封鎖和打壓，從長(cháng)遠來(lái)看，美國的封鎖反而可能會(huì )助推中國半導體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展。報道以美國限制華為、中芯國際的供應鏈為例指出，盡管有美國政府的出口限制，但中國半導體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對。

  中國有1000多家新興的半導體相關(guān)公司，如果華為和中芯國際從這些公司購買(mǎi)進(jìn)口的半導體芯片、設計軟件以及生產(chǎn)設備，實(shí)際上就可以進(jìn)行半導體采購并擴充制造設備。

  對此，Synopsis共同執行長(cháng)Aart de Geus表示，“在中國有很多半導體相關(guān)企業(yè)(除華為外)都在大量購買(mǎi)(設計軟件)?！边@種情況意味著(zhù)無(wú)法避免中國國內的轉售。

  另外，日經(jīng)指出，聯(lián)發(fā)科對美國的銷(xiāo)售額很少，該公司現在雖已停止對華為出貨，但也有可能會(huì )繼續接受華為的訂單并準備接受美國制裁。聯(lián)發(fā)科可以在不透露最終用戶(hù)詳細信息的情況下進(jìn)行訂單生產(chǎn)，臺積電同樣可以。

  短期內，美國施行出口限制的效果仍然值得懷疑，而就中長(cháng)期而言，貿易管制是否會(huì )讓美國、日本和歐洲繼續保持其半導體技術(shù)的優(yōu)勢，也還是一個(gè)未知數。

  更重要的是，與芯片平面上的精細化相比，3D堆疊技術(shù)正在成為延續摩爾定律的主角?；诖?，光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。

  目前，全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎技術(shù)的知識產(chǎn)權都由美國把持，因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設備。

  不過(guò)，若是EUV以外的光刻機，日本的尼康和佳能也可以制造。業(yè)界有關(guān)人士表示：“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開(kāi)發(fā)除EUV以外的新型光刻機?！贝送?，中國政府也開(kāi)始著(zhù)手開(kāi)發(fā)制造設備和設計軟件。

  值得一提的是，去年11月，日本半導體巨頭爾必達原社長(cháng)坂本幸雄就職紫光集團的高級副總裁，引發(fā)業(yè)界熱議。除了技術(shù)攻堅，中國目前也不惜重金吸引資深半導體產(chǎn)業(yè)人士。

  本文轉載自：中國半導體論壇