突發(fā)！日本光刻膠大廠(chǎng)斷供中國多家晶圓廠(chǎng)！

  ICC訊  5月27日，據產(chǎn)業(yè)媒體報道，由于日本信越化學(xué)KrF光刻膠產(chǎn)能不足等原因，導致中國大陸多家晶圓廠(chǎng)KrF光刻膠供應緊張，部分中小晶圓廠(chǎng)KrF光刻膠甚至出現了斷供!

  據悉，信越化學(xué)之所以停止供貨部分晶圓廠(chǎng)KrF光刻膠，與數月前日本福島東部海域發(fā)生7.3級地震有莫大關(guān)聯(lián)。半導體光刻膠是光刻過(guò)程的關(guān)鍵耗材，光刻膠的質(zhì)量和性能對光刻工藝有著(zhù)重要影響，因其技術(shù)壁壘高而長(cháng)期被海外大廠(chǎng)所主導，是半導體國產(chǎn)化的一道大坎。

  根據SEMI數據，日本幾大廠(chǎng)商在g線(xiàn)/i線(xiàn)、KrF、ArF膠市場(chǎng)中市占率分別為61%、80%、93%，而國內g線(xiàn)/i線(xiàn)自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無(wú)國內企業(yè)可以大規模生產(chǎn)。根據智研咨詢(xún)預測，2022年中國大陸半導體光刻膠市場(chǎng)空間將會(huì )接近55億元，是2019年的兩倍。

  以日本半導體光刻膠發(fā)展史為鑒，中國國產(chǎn)半導體光刻膠迎來(lái)發(fā)展良機。上市公司中，晶瑞股份KrF(248nm深紫外)光刻膠完成中試，產(chǎn)品分辨率達到了0.25-0.13μm的技術(shù)要求，i線(xiàn)光刻膠近年已向中芯國際等企業(yè)供貨。上海新陽(yáng)開(kāi)發(fā)的365nm I線(xiàn)、248nm KrF、193nm ArF干法及濕法光刻膠可適應國內0.35-0.11微米、90-28納米芯片工藝技術(shù)節點(diǎn)的需求。南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)下游客戶(hù)的使用認證，成為通過(guò)產(chǎn)品驗證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠，已完成的產(chǎn)線(xiàn)設計產(chǎn)能為25噸。