打破日本壟斷 三星與韓國廠(chǎng)商合作開(kāi)發(fā)成功EUV光刻膠

  ICC訊  EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場(chǎng)也主要被日本廠(chǎng)商壟斷，現在三星與韓國半導體廠(chǎng)商東進(jìn)合作開(kāi)發(fā)成功EUV光刻膠，已經(jīng)通過(guò)驗證。

  東進(jìn)半導體19日宣布，近期通過(guò)了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

  消息人士稱(chēng)，東進(jìn)半導體在其位于京畿道華城的工廠(chǎng)開(kāi)發(fā)了EUV PR，并在三星電子華城 EUV生產(chǎn)線(xiàn)上對其進(jìn)行了測試，并已通過(guò)可靠性測試。

  PR，也稱(chēng)為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關(guān)鍵材料。

  它應用于芯片上，當用半導體曝光設備照射光時(shí)，會(huì )發(fā)生化學(xué)反應并改變物理性質(zhì)，通過(guò)用顯影劑沖洗掉PR來(lái)繪制微電路，只留下必要的部分。

  2019年，日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經(jīng)限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。

  雖然已經(jīng)通過(guò)了測試，不過(guò)三星是否會(huì )在EUV生產(chǎn)線(xiàn)上立即使用東進(jìn)半導體的EUV光刻膠還不確定，三星及東進(jìn)拒絕表態(tài)。