ICC訊 近日,光迅科技連中三標,在光放大、光保護領(lǐng)域斬獲三項第一。
作為光放大、光保護領(lǐng)域領(lǐng)先的解決方案提供商,光迅科技堅持走自主創(chuàng )新之路,牽頭制定了多項國家標準及行業(yè)標準,通過(guò)持續不斷的技術(shù)積累,已建成半導體材料生長(cháng)、半導體工藝與平面光波導技術(shù)、光學(xué)設計與封裝技術(shù)、熱分析與機械設計技術(shù)、高頻仿真與設計技術(shù)、軟件控制與子系統開(kāi)發(fā)六大核心技術(shù)工藝平臺,具備了從芯片到器件、模塊、子系統全系列產(chǎn)品的垂直整合能力,基于此研發(fā)的光放大、光保護產(chǎn)品具有技術(shù)領(lǐng)先性,質(zhì)量可靠,深度契合客戶(hù)需求。
項目的連續中標既是客戶(hù)對光迅科技綜合實(shí)力的充分肯定,也在年度沖刺的關(guān)鍵時(shí)刻彰顯出了光迅科技強勁的市場(chǎng)拓展勢頭。
展望未來(lái),光迅科技將一如既往以客戶(hù)為中心,積極投入光芯片、光器件、光網(wǎng)絡(luò )技術(shù)創(chuàng )新,共創(chuàng )光網(wǎng)世界無(wú)限未來(lái)。