銘普光磁新增一項發(fā)明專(zhuān)利 400G光模塊已小批量供貨

  ICC訊  (編輯：Nicole) 光器件制造商東莞銘普光磁股份有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)：銘普光磁)發(fā)布公告稱(chēng)：公司近日取得一項由國家知識產(chǎn)權局頒發(fā)的“一種光模塊參數配置方法、裝置、設備及存儲介質(zhì)”發(fā)明專(zhuān)利證書(shū)(專(zhuān)利號：ZL 2018 1 1603013.2，專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明專(zhuān)利)。

  該發(fā)明公開(kāi)了一種光模塊參數配置方法、裝置、設備及存儲介質(zhì)，包括：將光模塊放置在高溫環(huán)境下，當 MCU 溫度指針達到目標工作溫度時(shí)，調節激光器核心溫度值、偏壓電流值和 VEA 值，使光模塊的光功率、消光比、通道代價(jià)滿(mǎn)足目標值;以光模塊中 MCU 溫度指針為索引，根據服務(wù)器上預先存儲的數據庫中激光器核心溫度值、VEA 值與調節后的激光器核心溫度值、VEA 值的對應關(guān)系，動(dòng)態(tài)更新本地數據庫中激光器核心溫度值、VEA 值;在常溫和低溫下分別測試光模塊的光功率、消光比和通道代價(jià)，若性能正常，則完成參數配置。

  本申請通過(guò)上述步驟將帶 EML 激光器的光模塊在高溫調試和常溫低溫測試，即能制作成品率高和合格率高的產(chǎn)品。

  銘普光磁表示獲得發(fā)明專(zhuān)利有利于充分發(fā)揮公司自主知識產(chǎn)權優(yōu)勢，完善知識產(chǎn)權保護體系，對公司開(kāi)拓市場(chǎng)及推廣產(chǎn)品產(chǎn)生積極的影響，形成持續創(chuàng )新機制，提升公司核心競爭力。

  近日，銘普光磁在接待東北證券調研時(shí)表示：公司400G光模塊產(chǎn)品應用于數據中心市場(chǎng)，目前已有多家客戶(hù)送樣，部分客戶(hù)已有小批量供貨。

  對于一些新的領(lǐng)域，如無(wú)人駕駛、商業(yè)衛星，有跟部分車(chē)企進(jìn)行合作，部分料號已有小批量交貨，但是否用于無(wú)人駕駛公司不是很清楚，也暫未參與商業(yè)衛星項目。

  關(guān)于銘普光磁

  東莞銘普光磁股份有限公司光電事業(yè)部成立于2009年5月，擁有一支高效的管理團隊以及具備豐富經(jīng)驗的研發(fā)和工藝開(kāi)發(fā)團隊。在秉承始終為客戶(hù)提供高品質(zhì)、低成本的解決方案的理念下，光電事業(yè)部在光電器件和模塊的研發(fā)、生產(chǎn)制造等方面取得了長(cháng)足的進(jìn)步并積累了豐富的經(jīng)驗。具有從TO，到光器件，至光模塊以及無(wú)源波分系統的垂直整合，以及大規模生產(chǎn)能力。同時(shí)也具備了COB和BOX等高端器件封裝設計和制造能力。