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臺積電發(fā)布產(chǎn)品規劃藍圖 預計2030年邁入1nm時(shí)代

摘要:臺積電日前在2023年IEEE國際電子元件會(huì )議上,發(fā)布進(jìn)軍至1nm制程的產(chǎn)品規劃藍圖。

  ICC訊 《科創(chuàng )板日報》28日訊,臺積電日前在2023年IEEE國際電子元件會(huì )議上,發(fā)布進(jìn)軍至1nm制程的產(chǎn)品規劃藍圖。預計到2030年,在3D封裝內提供超過(guò)1兆個(gè)晶體管,且公司正在開(kāi)發(fā)在單體式(monolithic)架構包含2000億個(gè)晶體管的芯片。為了實(shí)現這一目標,該公司重申正在致力于發(fā)展2nm級N2和N2P生產(chǎn)節點(diǎn)、1.4nm級A14和1nm級A10制造工藝,預計將于2030年完成。

內容來(lái)自:財聯(lián)社
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