臺媒：臺積電現已采購 35 臺 EUV 光刻機，占 ASML 過(guò)半產(chǎn)量

  ICC訊 12月2日消息 據中國臺灣經(jīng)濟日報報道，EUV 光刻機制造商 ASML 首席執行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪(fǎng)三星，雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在臺積電之前，取得 ASML 下一代 EUV 設備供應。

  業(yè)內人士分析稱(chēng)，三星積極追趕臺積電，不過(guò)臺積電在高良率與低功耗方面擁有優(yōu)勢。7nm 制程方面，臺積電先推出 FinFet 架構的 7nm 技術(shù)，再推出使用 EUV 的 N7 + 制程。5nm 方面，三星與臺積電仍有二成產(chǎn)能的差距。

  臺媒指出，供應鏈透露，臺積電目前已采購 35 臺 EUV 設備，占 ASML 過(guò)半產(chǎn)量，2021 年底采購總量將超過(guò) 50 臺。相較之下，三星 EUV 設備采購量目前不到 20 臺。

  據了解，臺媒 DigiTimes 今年 9 月曾表示，臺積電加速先進(jìn)制程推進(jìn)，累計 EUV 光刻機至 2021 年底將超過(guò) 50 臺。相較之下，三星電子 2021 年還不到 25 臺，同時(shí) EUV POD(光罩傳送盒)采購量遠低于預期。