新思科技與三星合作，加速推廣變革性3納米GAA技術(shù)

  ICC訊 7月12日消息，新思科技(Synopsys)近日宣布，其Fusion Design Platform?已支持三星晶圓廠(chǎng)實(shí)現一款先進(jìn)高性能多子系統片上系統(SoC)一次性成功流片，驗證了下一代3納米(nm)環(huán)繞式柵極(GAA)工藝技術(shù)在功耗、性能和面積(PPA)方面的優(yōu)勢。此次流片成功是新思科技和三星之間廣泛合作的成果，旨在加快提供高度優(yōu)化的參考方法學(xué)，實(shí)現全新3D晶體管架構所固有的卓越功耗和性能。

  新思科技提供的參考流程全面部署了其高度集成的Fusion Design Platform，包括業(yè)界唯一高度集成的、基于金牌簽核引擎的RTL到GDSII設計流程，以及最受業(yè)界信賴(lài)的金牌簽核產(chǎn)品。采用三星最新3nm GAA工藝的客戶(hù)，可在高性能計算(HPC)、5G、移動(dòng)應用和人工智能 (AI) 應用領(lǐng)域, 為下一代設計實(shí)現理想PPA目標。

  三星晶圓設計技術(shù)團隊副總裁Sangyun Kim表示：“三星晶圓是推動(dòng)下一階段行業(yè)創(chuàng )新的核心，我們基于工藝技術(shù)的持續演進(jìn)，來(lái)滿(mǎn)足專(zhuān)業(yè)和廣泛市場(chǎng)應用日益增長(cháng)的需求。我們全新的先進(jìn)3納米GAA工藝得益于我們與新思科技的廣泛合作，Fusion Design Platform讓我們加速實(shí)現3納米工藝的前景，這也充分彰顯了與行業(yè)領(lǐng)先者合作的重要性和優(yōu)勢。"

  根據摩爾定律，晶體管尺寸要進(jìn)一步縮小，而GAA架構為更高的晶體管密度提供了經(jīng)過(guò)流片驗證的途徑。GAA架構改進(jìn)了靜電特性，從而可提高了性能并降低了功耗，并帶來(lái)了基于納米片寬度這一工藝矢量的全新優(yōu)化機會(huì )。這種額外的自由度與成熟的電壓閾值調諧相結合，擴大了優(yōu)化解決方案的空間，從而更精細化地控制總體目標設計PPA指標的實(shí)現。新思科技和三星開(kāi)展密切合作，加速這一變革性技術(shù)的可用性并進(jìn)一步提高效能，從而在新思科技的Fusion Compiler和IC CompilerII中實(shí)現了全流程、高收斂度優(yōu)化。

  不斷優(yōu)化的新思科技Fusion Design Platform為應對來(lái)自先進(jìn)節點(diǎn)的各種挑戰提供了完美的解決方案，這些挑戰包括復雜的庫單元擺放和布局規劃規則、新的布線(xiàn)規則和更加明顯的工藝變化?；趩我粩祿Ｐ鸵约肮蚕硗ㄓ脙?yōu)化架構，Fusion Design Platform平臺可確保單點(diǎn)技術(shù)更新也能夠幫助設計的優(yōu)化收斂、盡可能消除系統裕度，以實(shí)現更快的收斂周期。

  新思科技數字設計事業(yè)部總經(jīng)理Shankar Krishnamoorthy表示：“GAA晶體管結構是工藝技術(shù)進(jìn)步的關(guān)鍵轉折點(diǎn)，對于延續工藝進(jìn)步趨勢至關(guān)重要，為下一波超大規模創(chuàng )新提供保障。我們與三星晶圓的戰略合作，旨在共同提供一流的技術(shù)和解決方案，確保工藝進(jìn)步趨勢的延續，為更廣泛的半導體行業(yè)帶來(lái)全新機會(huì )。"

  關(guān)于3納米GAA工藝的新思科技技術(shù)文檔可通過(guò)三星晶圓獲取。新思科技Fusion Design Platform中經(jīng)過(guò)驗證的關(guān)鍵產(chǎn)品包括：

  數字設計

  *Fusion Compiler是業(yè)界唯一的RTL到GDSII產(chǎn)品

  *IC Compiler II布局布線(xiàn)解決方案

  *Design Compiler® RTL綜合解決方案

  簽核

  *PrimeTime®業(yè)界金牌標準時(shí)序簽核解決方案

  *StarRC?寄生參數提取-簽核解決方案

  *IC Validator物理簽核解決方案

  *SiliconSmart®庫特性描述解決方案