ICC訊 4月24日消息,據國外媒體報道,三星電子2020年開(kāi)始在韓國平澤市建設的P3晶圓廠(chǎng),將在下月開(kāi)始設備的安裝,計劃在今年下半年建成。
三星平澤P3晶圓廠(chǎng)下月開(kāi)始設備的安裝,是韓國媒體率先援引消息人士的透露報道的,設備的進(jìn)入及安裝將持續到7月份,較最初計劃的時(shí)間將提前1個(gè)月。
三星電子在平澤建設的P3工廠(chǎng),占地70萬(wàn)平方米,將成為全球園區最大的晶圓廠(chǎng),是三星電子P2工廠(chǎng)的1.7倍。當然,工廠(chǎng)的投資也會(huì )相當龐大,他們計劃未來(lái)幾年最少投資30萬(wàn)億韓元,最多則投資50萬(wàn)億韓元,也就是至少投資240億美元,最高投資400億美元。
從外媒的報道來(lái)看,三星電子平澤P3晶圓廠(chǎng),規劃的是一座既生產(chǎn)存儲芯片,又生產(chǎn)邏輯芯片的工廠(chǎng),率先投產(chǎn)的是NAND閃存,隨后是DRAM,隨后是采用3nm工藝為其他廠(chǎng)商代工晶圓的生產(chǎn)線(xiàn)。
三星電子平澤P3晶圓廠(chǎng)率先開(kāi)始生產(chǎn)NAND閃存,也就意味著(zhù)工廠(chǎng)設備的安裝,將從NAND閃存生產(chǎn)設備開(kāi)始,外媒在報道中是表示在5月份的第一個(gè)周就將開(kāi)始安裝。
值得注意的是,三星電子的這一座工廠(chǎng),將大量采用極紫外光刻機。外媒在報道中就提到,這一工廠(chǎng)的NAND閃存生產(chǎn)線(xiàn),將采用極紫外光刻機生產(chǎn)第7代176層V-NAND閃存,為其他廠(chǎng)商代工晶圓的3nm工藝,也需要極紫外光刻機。