據麥姆斯咨詢(xún)報道,近日,超構表面光子芯片研發(fā)廠(chǎng)商山河光電宣布完成數千萬(wàn)元Pre-A輪融資,本輪融資由舜宇產(chǎn)業(yè)基金和經(jīng)緯創(chuàng )投聯(lián)合領(lǐng)投,老股東中科創(chuàng )星持續跟投。融資資金將用于產(chǎn)品研發(fā)、團隊擴充以及小規模量產(chǎn)。
近年來(lái),超構表面(metasurface)與超構透鏡(metalens)的研究成為光學(xué)前沿技術(shù)熱點(diǎn),也是光學(xué)和光子學(xué)領(lǐng)域發(fā)展最快、最具顛覆性的新技術(shù)。
超構表面是由大量亞波長(cháng)單元在二維平面上設計排布而成的人工結構陣列,能夠對電磁波進(jìn)行靈活調控。超構透鏡是具有透鏡功能的超構表面,其體積小、重量輕、易于集成,可實(shí)現對入射光振幅、相位、偏振等參量的精確控制,在手機/車(chē)載攝像模組、VR/AR、全息顯示、醫療傳感與成像等方面有潛在重要應用。
山河光電成立于2020年底,致力于光的超級感知、光的大容量傳輸、微型顯示以及光計算等方向的超構表面光子芯片產(chǎn)品研發(fā)與制造。
據山河光電介紹,光學(xué)超構表面是使用半導體工藝在晶圓上批量制備的微米、亞微米級厚度平面器件,可實(shí)現功能集成化(多種光學(xué)功能集成在一個(gè)光子芯片上)并可進(jìn)行納米級光波波前的編碼和調控,因此也被稱(chēng)為超構表面光子芯片或平面光子芯片;可采用無(wú)機材料制造,使其具備傳統玻璃透鏡的環(huán)境與溫度穩定性,適用于車(chē)輛、航空航天、水下等多種復雜環(huán)境;可克服傳統光學(xué)透鏡厚重、功能單一、模組工藝復雜、量產(chǎn)成本高的缺點(diǎn);這些特點(diǎn)使得超構表面光子芯片被認為是光學(xué)領(lǐng)域數百年來(lái)最重要的一次變革,其不僅可以革新傳統市場(chǎng),也將創(chuàng )造具有廣闊前景的新市場(chǎng)。
山河光電結合現代半導體制造工藝與光子學(xué)研究的最新進(jìn)展,獨立設計并使用先進(jìn)半導體技術(shù)在晶圓上批量制備多種功能集成化的超構表面光子芯片器件及模組。公司擁有多項創(chuàng )新專(zhuān)利,相關(guān)產(chǎn)品在消費電子、汽車(chē)電子、無(wú)人機、安防監控、自動(dòng)駕駛、通信、航空航天及國防軍工等眾多領(lǐng)域具有廣闊的市場(chǎng)前景。山河光電現已完成多款超構表面光子芯片產(chǎn)品的樣品制作和模組封裝,預期今年可實(shí)現小規模量產(chǎn)。
技術(shù)團隊方面,山河光電匯聚了海內外知名高校、科研院所的博士和多名十余年半導體工藝與晶圓級光模組封測工作經(jīng)驗的產(chǎn)業(yè)專(zhuān)家,并與國內外多家高校、科研院所建立了合作關(guān)系。
值得一提的是,山河光電CEO是美國著(zhù)名光學(xué)中心羅切斯特大學(xué)的光學(xué)博士和SPIE高級會(huì )員,并被認定為國家海外高層次留學(xué)人才,深耕光學(xué)和半導體領(lǐng)域多年,在超構表面光子芯片研發(fā)和量產(chǎn)上具備更加全面的視角。歸國之前曾在世界兩大半導體研發(fā)中心之一的IBM研發(fā)聯(lián)盟工作近十年,主持了美國第一臺EUV光刻原型驗證機Alpha demo tool以及后續EUV機型NXE: 3300的工藝驗證工作,在世界上首次實(shí)現了EUV光刻工藝良率,直接參與了14nm、10nm、7nm、5nm和3nm節點(diǎn)的研發(fā)工作,推動(dòng)了EUV光刻技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化。其已發(fā)表26篇國際專(zhuān)業(yè)期刊文章和幾十次國際會(huì )議邀請報告,授權發(fā)明專(zhuān)利30 余項,其中美國專(zhuān)利32項。
市場(chǎng)前景方面,美國知名科技研究機構Lux Research預計未來(lái)的光學(xué)超構表面市場(chǎng)有望超過(guò)500億美元,超構表面光子芯片作為前沿技術(shù)正走向落地,市場(chǎng)將迎來(lái)爆發(fā)。