荷蘭光刻機巨頭ASML增勢不減，第三季度凈賺17億歐元

  ICC訊 近日，荷蘭光刻機巨頭ASML公布了第三季度財報，財報顯示，其凈銷(xiāo)售額為58億歐元（約合410.2億元人民幣），毛利率為 51.8%，凈收入為17億歐元（約120.2億元人民幣），其凈預訂額更是達到了89億歐元（約629.4億元人民幣），創(chuàng )造了歷史新高。ASML預計第四季度凈銷(xiāo)售額在61億歐元（約431.4億元人民幣）至66億歐元（約466.7億元人民幣）之間，毛利率約為49%，預計全年銷(xiāo)售額為211億歐元（約1492.1億元人民幣）。

  成本激增，廠(chǎng)商無(wú)力承受

  此前就有消息稱(chēng)，ASML準備在明年向客戶(hù)交付首臺High-NA EUV光刻機。臺積電表示將在2024年購買(mǎi)ASML的High-NA EUV光刻機，英特爾同樣也已下單，誰(shuí)將拿到第一臺High-NA EUV光刻機還是個(gè)懸念。

  但臺積電總裁魏哲家此前在其第三季度財報的法說(shuō)會(huì )上宣布，將全年的資本支出下調至360億美元，主要原因在于臺積電將持續面臨半導體設備的交付挑戰。

  據記者了解，全新一代High NA EUV光刻機的售價(jià)預計將會(huì )超過(guò)3億美元，是傳統EUV光刻機售價(jià)的三倍左右，再加上High-NA EUV光刻機對于光源的需求大幅提升，耗電量也將從1.5兆瓦提升到2兆瓦，讓臺積電等廠(chǎng)商倍感壓力。臺積電目前已經(jīng)安裝了超80臺EUV光刻機，此前就因不堪電費的重負，已經(jīng)關(guān)閉了4臺EUV光刻機，還計劃將在2023年上調先進(jìn)工藝的代工價(jià)格，減輕財務(wù)負擔。

  此外，對于High-NA技術(shù)之后的Hyper-NA技術(shù)，ASML的首席技術(shù)官Martin van den Brink表示，因為技術(shù)難度的大幅提升，導致Hyper-NA設備的制造和使用成本都高得驚人，且不一定能真正投入生產(chǎn)。因此，High-NA技術(shù)很可能將成為EUV光刻技術(shù)的終點(diǎn)。

  北京半導體行業(yè)協(xié)會(huì )副秘書(shū)長(cháng)朱晶對此表示，未來(lái)更先進(jìn)的制程工藝很可能沒(méi)有大規模的增量市場(chǎng)作為支撐，像是手機，PC和數據中心等市場(chǎng)的增量規模，都難以支撐Hyper-NA EUV光刻機的巨量研發(fā)投入，也無(wú)法承擔能源的消耗量，除非元宇宙，區塊鏈這些新場(chǎng)景的滲透率快速提升，對先進(jìn)工藝的需求增量快速增加，不然，High-NA光刻技術(shù)很可能是EUV光刻的結局。

  EUV之后還有什么？

  隨著(zhù)EUV光刻技術(shù)的弊端越來(lái)越明顯，很多企業(yè)和大學(xué)都開(kāi)始想方設法繞道而行，目前已經(jīng)有多項技術(shù)脫穎而出。

  例如，9月21日，美國原子級精密制造工具的納米技術(shù)公司Zyvex Labs發(fā)布公告，已推出世界上最高分辨率的光刻系統“ZyvexLitho1“，其基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束光刻方式，可以制造出0.7納米線(xiàn)寬的芯片，相當于2個(gè)硅原子的寬度，是當前制造精度最高的光刻系統。目前，Zyvex Labs已經(jīng)開(kāi)始接受訂單，6個(gè)月內就可出貨。

  此外還有多電子束直寫(xiě)光刻機（MEB）、定向自組裝技術(shù)（DSA）以及納米壓印技術(shù)（NIL）等技術(shù)。MEB被廣泛應用于掩膜的制造，分辨率可達到2納米，未來(lái)將被用于在晶圓上直接刻畫(huà)圖形而不借助掩膜版。DSA則利用兩種聚合物材料的定向生長(cháng)進(jìn)行加工，對于材料的控制要求高，生長(cháng)缺陷大，目前還不能真正用于生產(chǎn)，但可兼顧分辨率極高的加工速度需求。

  日本佳能從2017年就開(kāi)始與鎧俠、大日本印刷公司等半導體企業(yè)合作研發(fā)NIL的量產(chǎn)技術(shù)。目前已成功掌握15納米量產(chǎn)技術(shù)，鎧俠已經(jīng)將NIL技術(shù)應用到了15nm NAND閃存器上，正在進(jìn)行15納米以下技術(shù)研發(fā)，有望在2025年推出采用NIL技術(shù)的5nm芯片，耗電量可壓低至EUV生產(chǎn)方式的10%，設備投資也將降低至40%。

  近日，佳能表示，將投資超500億日元（約合24.6億元人民幣），在日本栃木縣宇都宮市新建半導體設備工廠(chǎng)，占地面積約7萬(wàn)平方米，主要增產(chǎn)光刻設備，建成后預計產(chǎn)能將提高2倍。這也是佳能21年來(lái)首次擴產(chǎn)半導體光刻機設備，今年的目標是銷(xiāo)售180臺光刻設備，將比2021年增加約30%，可以看出佳能也在努力搶占光刻機的市場(chǎng)份額。

  打破質(zhì)疑，ASML地位依舊穩固

  這不禁讓大眾對ASML的前景產(chǎn)生擔憂(yōu)，但ASML此次公布的第三季度財報，可以說(shuō)是打破了民眾的顧慮，ASML依舊深受廠(chǎng)商的追捧。ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示：“第三季度凈銷(xiāo)售額高于預期，89億歐元(約合630.6億元人民幣)的第三季度的預訂量中，其中38億歐元(約合269.2億元人民幣)是EUV光刻機，包括高數值孔徑系統。ASML預計第四季度凈銷(xiāo)售額在61億歐元（約431.4億元人民幣）至66億歐元（約466.7億元人民幣）之間。ASML預計研發(fā)成本約為8.8億歐元(約合62.3億元人民幣)，SG&A成本約為2.65億歐元(約合18.8億元人民幣)。2022年，預計全年收入為211億歐元(約合1495億元人民幣)，毛利率接近50%?！?

  對于新型光刻系統是否會(huì )威脅到EUV光刻的統治地位，賽迪顧問(wèn)集成電路產(chǎn)業(yè)研究中心一級咨詢(xún)專(zhuān)家池憲念表示：“短期內并不會(huì )“。因為這些新型設備的單個(gè)產(chǎn)品光刻的工作時(shí)間要在幾小時(shí)到十幾小時(shí)不等，工作效率方面還需進(jìn)一步提高，因此不會(huì )快速取代EUV光刻機。