研究背景
電光削波器是一種基于晶體材料電光效應的調制器件,通過(guò)外加電場(chǎng)改變電光晶體的折射率,從而改變光通過(guò)晶體后的位相,配合正交偏振系統使用,可實(shí)現光強調制。電光削波器具有響應速度快、控制精度高等特點(diǎn),在聚變用高功率激光器、激光通信、激光精細加工等方面有著(zhù)廣泛的應用。隨著(zhù)光電子科學(xué)與技術(shù)的飛速發(fā)展,電光調制器件朝著(zhù)高速率、高帶寬、大消光比、大功率、寬光譜、低功耗等方向發(fā)展。
目前,常見(jiàn)的電光調制器分為體式和波導式兩種。傳統體式電光調制器可應用于大功率激光系統,但其半波電壓受晶體尺寸影響通常較高(在kV量級),調制帶寬適中(通常為百MHz量級);波導式電光調制器件的帶寬較高(通常在GHz以上),但干涉的基本原理限制了其在大功率和寬譜光源中的應用。
大功率、寬光譜的高速脈沖調制應用,對電光削波器提出高消光比、低半波電壓、寬透光波段、高溫度穩定性、低成本等要求,器件的性能極大的依賴(lài)于電光晶體的性能。在少數可實(shí)用化的電光晶體中,LN晶體由于具有透光范圍寬、電光系數大、工作溫度范圍寬、不潮解、易生長(cháng)大尺寸光學(xué)級單晶、易加工等優(yōu)勢,是制備電光削波器的優(yōu)選材料。
創(chuàng )新工作
南開(kāi)大學(xué)弱光非線(xiàn)性光子學(xué)教育部重點(diǎn)實(shí)驗室孫軍教授課題組從大功率、寬光譜的高速脈沖調制應用需求入手,綜合考慮晶體性能、電極結構等,設計并制備了一種應用于高速脈沖調制的低半波電壓體式LN電光削波器,并對其光學(xué)質(zhì)量、半波電壓、消光比、削波性能等進(jìn)行了測試與表征。
在結構設計方面,為彌補體式和波導式電光調制器件的不足,擴展體式電光調制器件的調制帶寬,采用分布參數的平行板傳輸線(xiàn)電極構成了行波調制器結構(圖1)。
圖1 行波調制器結構
為降低器件的半波電壓,需利用LN晶體較大的有效電光系數,并合理設計晶體的橫縱比。在分析鈮酸鋰晶體的電光效應的基礎上,采用沿晶體x軸方向通光、z軸方向加電的橫向電光調制工作方式。由于沿晶體非光軸方向通光,存在自然雙折射現象,需采用雙晶匹配的方式消除影響,如圖2所示。
圖2 LN雙晶匹配補償自然雙折射
根據器件的特性阻抗、消光比、通光孔徑等設計晶體尺寸并加工,之后將晶體裝配于彈性支架中,固定晶體的同時(shí)避免引入夾持應力。對裝配后的器件進(jìn)行檢測,兩匹配晶體光學(xué)均勻性高,匹配良好,動(dòng)態(tài)消光比可達200:1。
理論計算器件的半波電壓約為730 V(@1064 nm),外加直流電壓測得的半波電壓約為900 V,考慮到不同晶體的差異性和加工精度的差別,以及電光系數在高頻和低頻電場(chǎng)下測量值的差異,最終將脈沖幅值確定為800 V。
高壓脈沖電源輸出電信號的脈寬實(shí)測值為0.95 ns,幅值實(shí)測值為803 V,重復頻率1 Hz。用LN電光削波器對1064 nm連續激光進(jìn)行削波,獲得了重復頻率1 Hz、脈寬1.46 ns、上升沿約0.8 ns的脈沖輸出,如圖3所示。
圖3 削波后的激光脈沖
總結與展望
課題組基于雙晶匹配和行波電極結構工作原理,設計并制備了一種應用于高速脈沖調制的低半波電壓體式LN電光削波器。
后續可通過(guò)對晶體切型及尺寸、電極結構的改良設計,進(jìn)一步降低器件的半波電壓,提高調制帶寬,并通過(guò)對驅動(dòng)高壓脈沖信號參數(脈寬、重復頻率)的設置,獲得所需脈寬、重頻的激光脈沖輸出,滿(mǎn)足對脈沖波形進(jìn)行精密控制的各種應用需求。