俄羅斯自研光刻機！ 造價(jià)36萬(wàn)人民幣！

  ICC訊  據俄羅斯國際新聞通訊社報道，圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開(kāi)發(fā)出了一種“國產(chǎn)光刻復合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片，這將使“解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權問(wèn)題”成為可能。

  圣彼得堡理工大學(xué)代表透露。該設備綜合體包括用于無(wú)掩模納米光刻和等離子體化學(xué)蝕刻的設備。據介紹，其中一種工具的成本為 500 萬(wàn)盧布(當前約 36.3 萬(wàn)元人民幣)，另一種工具的成本未知。

  第一種設備可用于在基底上獲得圖像，而無(wú)需特殊掩模。據開(kāi)發(fā)人員稱(chēng)，與傳統光刻技術(shù)相比，無(wú)論是在成本還是時(shí)間方面，這項技術(shù)都劃算得多，因為傳統光刻技術(shù)需要使用專(zhuān)門(mén)的掩膜板來(lái)獲取圖像。該裝置由專(zhuān)業(yè)軟件控制，可實(shí)現完全自動(dòng)化。

  這位代表稱(chēng)，該綜合體由圣彼得堡理工大學(xué)開(kāi)發(fā)，旨在創(chuàng )建“各種微電子設備運行”所需的“納米結構”。該工藝的第一階段需要使用基礎掩模光刻機，第二階段則需要用到硅等離子化學(xué)蝕刻機。

  據悉，第二種裝置需要用到第一階段在基底上創(chuàng )建的圖像。俄新社寫(xiě)道，該設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。

  該項目的作者向俄新社保證，在這種機器上制作的硅膜“在可靠性和靈敏度方面超過(guò)了用液體或激光蝕刻方法制作的硅膜”。他們還強調，這是完全的(俄羅斯)國產(chǎn)產(chǎn)品。

  實(shí)際上，圣彼得堡理工大學(xué)并不是唯一一所致力于研究先進(jìn)的國產(chǎn)光刻解決方案的機構。早在 2022 年 10 月，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應用物理研究所就宣布開(kāi)始朝這個(gè)方向展開(kāi)工作，但其目標略有不同。

  公開(kāi)資料顯示，截至 2023 年 10 月，俄羅斯最多可以使用 65nm 的拓撲結構，而該技術(shù)在近 20 年前就已經(jīng)幾乎被淘汰了，不過(guò)俄羅斯現在正在建設 28nm 芯片工廠(chǎng)。

  據稱(chēng)，諾夫哥羅德應用物理研究所正在努力縮小俄羅斯與世界其他國家之間的巨大差距，而他們的專(zhuān)家正在開(kāi)發(fā)第一款國產(chǎn)光刻機，能夠生產(chǎn) 7nm 拓撲芯片。然而，這仍需要數年時(shí)間，至少要到 2028 年才能開(kāi)始全面運行。